第十四屆中國國際半導體博覽會暨高峰論壇，將在上海新國際博覽中心隆重舉行（同期舉辦的還有第88屆中國電子展、亞洲電子展等頂級行業盛會），盛美半導體設備（上海）有限公司攜半導體濕法設備（深孔清洗、圖形結構清洗、薄片清洗、濕法刻蝕、涂膠、去膠、顯影、等設備）亮相此次展會。
此次展會，盛美主要推廣的優勢技術產品為兆聲波清洗設備，用化學藥液配合兆聲波裝置對晶圓表面進行濕法清洗工藝，可有效去除顆粒，金屬雜質，以及表面殘余污染物等，清洗效果顯著，并且能控制晶圓圖形結構不受到損傷和破壞。目前盛美的兆聲波清洗設備已用于多家國際知名半導體制造商。
公司簡介：
公司成立于1998年在硅谷，ACM的研究，公司專業從事濕法處理技術在半導體工業和生產應用在世界一流設備的各種類型：
2006九月，美國擴大了市場對亞洲和形成的子公司，ACM的研究（上海），公司目前位于Zhangjiang高科技園區的上海中國，ACM的研究（上海）公司進行的活動，從研發、工程、制造、營銷、銷售和客戶服務，有超過100個國際專利授權強大的知識產權組合，ACM是致力于為客戶提供領先的技術解決方案，世界一流的產品和優質的服務。
